Ugljikov tetrafluorid (CF4)

Tehnički parametri

Ugljikov tetrafluorid je halogenirani ugljikovodik kemijske formule CF4.Može se smatrati halogeniranim ugljikovodikom, halogeniranim metanom, perfluorougljikom ili anorganskim spojem.Ugljikov tetrafluorid je plin bez boje i mirisa, netopljiv u vodi, topiv u benzenu i kloroformu.Stabilan na normalnoj temperaturi i tlaku, izbjegavajte jake oksidanse, zapaljive ili zapaljive materijale.Nezapaljiv plin, unutarnji tlak spremnika će se povećati kada je izložen visokoj toplini, te postoji opasnost od pucanja i eksplozije.Kemijski je stabilan i nezapaljiv.Samo tekući metalni reagens amonijak-natrij može djelovati na sobnoj temperaturi.Ugljikov tetrafluorid je plin koji uzrokuje efekt staklenika.Vrlo je stabilan, može dugo ostati u atmosferi i vrlo je snažan staklenički plin.Ugljikov tetrafluorid koristi se u procesu plazma jetkanja raznih integriranih sklopova.Također se koristi kao laserski plin, a koristi se u niskotemperaturnim rashladnim sredstvima, otapalima, mazivima, izolacijskim materijalima i rashladnim tekućinama za infracrvene detektore.To je plin za plazma jetkanje koji se najviše koristi u industriji mikroelektronike.To je mješavina tetrafluorometana plina visoke čistoće i tetrafluorometana plina visoke čistoće i kisika visoke čistoće.Može se široko koristiti u siliciju, silicijevom dioksidu, silicijevom nitridu i fosfosilikatnom staklu.Jetkanje materijala tankog filma kao što su volfram i volfram također se naširoko koristi u površinskom čišćenju elektroničkih uređaja, proizvodnji solarnih ćelija, laserskoj tehnologiji, niskotemperaturnom hlađenju, inspekciji curenja i deterdžentu u proizvodnji tiskanih krugova.Koristi se kao niskotemperaturno rashladno sredstvo i tehnologija suhog jetkanja plazmom za integrirane krugove.Mjere opreza pri skladištenju: Čuvati u hladnom, ventiliranom skladištu nezapaljivog plina.Držati dalje od vatre i izvora topline.Temperatura skladištenja ne smije prelaziti 30°C.Treba ga skladištiti odvojeno od lako (zapaljivih) zapaljivih tvari i oksidansa te izbjegavati miješano skladištenje.Skladišni prostor treba biti opremljen opremom za hitno liječenje curenja.

Primjena:

① Rashladno sredstvo:

Tetrafluorometan se ponekad koristi kao rashladno sredstvo niske temperature.

② Graviranje:

Koristi se u mikroproizvodnji elektronike sam ili u kombinaciji s kisikom kao plazma jetkač za silicij, silicij dioksid i silicij nitrid.

Normalni paket:

Prednost:

①Visoka čistoća, najnoviji objekt;

②Proizvođač ISO certifikata;

③Brza dostava;

④On-line sustav analize za kontrolu kvalitete u svakom koraku;

⑤Visoki zahtjevi i pedantan postupak za rukovanje cilindrom prije punjenja;