Hidrogen klorid (HCl)

Tehnički parametri:

Vodikov klorid ima kemijsku formulu HCl. Molekula vodikovog klorida sastoji se od atoma klora i atoma vodika. To je bezbojni plin s opuštenim mirisom. Korozivni, nezapaljivi plin, ne reagira s vodom, već je lako topiv u vodi. Često je prisutan u zraku u obliku dima klorovodične kiseline. Klorid vodikov je lako topiv u etanolu i eteru, a također je topiv i u mnogim drugim organskim tvarima; Vrlo lako topljivo u vodi, na 0 ° C, 1 volumen vode može se otopiti približno 500 volumena vodikovog klorida. Njegova vodena otopina obično je poznata kao klorovodična kiselina, a znanstveno ime je klorovodična kiselina. Koncentrirana klorovodična kiselina je hlapljiva. Klorid vodikov je bezbojan, s talištem od -114,2 ° C i točkom ključanja od -85 ° C. Ne gori u zraku i toplinski je stabilan. Ne raspada se do oko 1500 ° C. Ima ugušen miris, ima snažnu iritaciju na gornji respiratorni trakt i korozivan je prema očima, koži i sluznicama. Gustoća je veća od zraka. Kemijska svojstva suhog vodikovog klorida su vrlo neaktivna. Alkalijski metali i alkalni metali Zemlje mogu izgorjeti u hidrogen kloridu, a kad natrija izgara, emitira jarko žuti plamen. Klorid vodikov koristi se u petrokemijskoj industriji za promicanje učinkovitosti i regeneracije katalizatora i povećanje viskoznosti nafte; Može se koristiti za proizvodnju klorosulfonske kiseline, sintetičke gume itd.; Također se može koristiti za izradu boja, mirisa, sinteze lijekova, različitih klorida i inhibitora korozije, te čistog, kiselog metala, metala za elektroprivažu, štavljenja, rafiniranja ili proizvodnje tvrdog metala. Plin hidrogena visoke čistoće naširoko se koristi u silicijskom epitaksijskom rastu, procesima poliranja faze pare, pokretanju, jetkanju i čišćenju u elektroničkoj industriji.

Prijava:

①Material:

Većina vodikovih klorida koristi se u proizvodnji klorovodične kiseline. To je također važan reagens u drugim industrijskim kemijskim transformacijama.

②Semiconductor:

U industriji poluvodiča koristi se i za etch kristale poluvodiča i za pročišćavanje silicija putem triklorosilana (SIHCL3).

③laboratorno:

U laboratoriju su bezvodni oblici plina posebno korisni za stvaranje lewis kiselina na bazi klorida, koje moraju biti apsolutno suhe kako bi njihova mjesta Lewis funkcionirala.

Normalni paket:

Prednosti:

① Visoka čistoća, najnoviji objekt;

Proizvođač certifikata;

③ brza dostava;

Sustav analize analize za kontrolu kvalitete u svakom koraku;

⑤ Visok zahtjev i pažljiv postupak za rukovanje cilindrom prije punjenja;