Jeftini cjenik za specijalne plinove Dobava u Kini Elektron/poluvodič, čistoća 99,999% ugljik tetrafluorid/tetrafluorometan CF4 plin cijena

"Iskrenost, inovativnost, rigoroznost i učinkovitost" može biti uporna koncepcija naše organizacije za to dugoročno uspostavljanje zajedno s klijentima radi uzajamnog reciprociteta i uzajamne dobiti za Jeftini Cjenik za specijalne plinove Dobava u Kini Elektron/poluvodič Grade 99,999% Čistoća Ugljik Cijena plina za tetrafluorid/tetrafluorometan CF4, Budući da smo mlada tvrtka koja eskalira, možda nismo najučinkovitiji, ali dajemo sve od sebe da općenito budemo vaš fantastičan partner.
“Iskrenost, inovativnost, rigoroznost i učinkovitost” može biti uporna koncepcija naše organizacije za to dugoročno uspostavljanje zajedno s klijentima radi uzajamnog reciprociteta i uzajamne dobiti zaKina CF4 i CF4 plin, "Stvorite vrijednosti, služeći klijentima!"je cilj kojem težimo.Iskreno se nadamo da će svi kupci uspostaviti dugoročnu i obostrano korisnu suradnju s nama. Ako želite dobiti više detalja o našoj tvrtki, svakako nas kontaktirajte sada!

Tehnički parametri

Ugljikov tetrafluorid je halogenirani ugljikovodik kemijske formule CF4.Može se smatrati halogeniranim ugljikovodikom, halogeniranim metanom, perfluorougljikom ili anorganskim spojem.Ugljikov tetrafluorid je plin bez boje i mirisa, netopljiv u vodi, topiv u benzenu i kloroformu.Stabilan na normalnoj temperaturi i tlaku, izbjegavajte jake oksidanse, zapaljive ili zapaljive materijale.Nezapaljiv plin, unutarnji tlak spremnika će se povećati kada je izložen visokoj toplini, te postoji opasnost od pucanja i eksplozije.Kemijski je stabilan i nezapaljiv.Samo tekući metalni reagens amonijak-natrij može djelovati na sobnoj temperaturi.Ugljikov tetrafluorid je plin koji uzrokuje efekt staklenika.Vrlo je stabilan, može dugo ostati u atmosferi i vrlo je snažan staklenički plin.Ugljikov tetrafluorid koristi se u procesu plazma jetkanja raznih integriranih sklopova.Također se koristi kao laserski plin, a koristi se u niskotemperaturnim rashladnim sredstvima, otapalima, mazivima, izolacijskim materijalima i rashladnim tekućinama za infracrvene detektore.To je plin za plazma jetkanje koji se najviše koristi u industriji mikroelektronike.To je mješavina tetrafluorometana plina visoke čistoće i tetrafluorometana plina visoke čistoće i kisika visoke čistoće.Može se široko koristiti u siliciju, silicijevom dioksidu, silicijevom nitridu i fosfosilikatnom staklu.Jetkanje materijala tankog filma kao što su volfram i volfram također se naširoko koristi u površinskom čišćenju elektroničkih uređaja, proizvodnji solarnih ćelija, laserskoj tehnologiji, niskotemperaturnom hlađenju, inspekciji curenja i deterdžentu u proizvodnji tiskanih krugova.Koristi se kao niskotemperaturno rashladno sredstvo i tehnologija suhog jetkanja plazmom za integrirane krugove.Mjere opreza pri skladištenju: Čuvati u hladnom, ventiliranom skladištu nezapaljivog plina.Držati dalje od vatre i izvora topline.Temperatura skladištenja ne smije prelaziti 30°C.Treba ga skladištiti odvojeno od lako (zapaljivih) zapaljivih tvari i oksidansa te izbjegavati miješano skladištenje.Skladišni prostor treba biti opremljen opremom za hitno liječenje curenja.

Primjena:

① Rashladno sredstvo:

Tetrafluorometan se ponekad koristi kao rashladno sredstvo niske temperature.

② Graviranje:

Koristi se u mikroproizvodnji elektronike sam ili u kombinaciji s kisikom kao plazma jetkač za silicij, silicij dioksid i silicij nitrid.

Normalni paket:

Prednost:

①Visoka čistoća, najnoviji objekt;

②Proizvođač ISO certifikata;

③Brza dostava;

④On-line sustav analize za kontrolu kvalitete u svakom koraku;

⑤Visoki zahtjevi i pedantan postupak za rukovanje cilindrom prije punjenja;