Novopečeni kineski plin CF4 visoke čistoće za jetkanje u poluvodičkoj industriji

Vjerujemo u: Inovacija je naša duša i duh. Dobra kvaliteta je naš život. Ono što kupac treba imati je naš Bog za novopridošli kineski plin visoke čistoće CF4 za jetkanje u poluvodičkoj industriji. Iskreno se trudimo ponuditi najbolju uslugu svim klijentima i poslovnim ljudima.
Vjerujemo u: Inovacija je naša duša i duh. Dobra kvaliteta je naš život. Potreba kupca je naš Bog za nas.Kineski rashladni plin CF4, Plinska bocaSada je konkurencija u ovom području vrlo žestoka; ali mi ćemo i dalje nuditi najbolju kvalitetu, razumnu cijenu i najoštriju uslugu u nastojanju da postignemo cilj u kojem svi dobivaju. „Promjena na bolje!“ je naš slogan, što znači „Bolji svijet je pred nama, pa uživajmo u njemu!“ Promjena na bolje! Jeste li spremni?

Tehnički parametri

Ugljikov tetrafluorid je halogenirani ugljikovodik kemijske formule CF4. Može se smatrati halogeniranim ugljikovodikom, halogeniranim metanom, perfluorougljikom ili anorganskim spojem. Ugljikov tetrafluorid je plin bez boje i mirisa, netopljiv u vodi, topljiv u benzenu i kloroformu. Stabilan je pri normalnoj temperaturi i tlaku, izbjegavajte jake oksidanse, zapaljive ili gorljive materijale. Nezapaljiv je plin, unutarnji tlak u spremniku će se povećati kada je izložen visokoj toplini, a postoji opasnost od pucanja i eksplozije. Kemijski je stabilan i nezapaljiv. Samo tekući metalni reagens amonijak-natrij može djelovati na sobnoj temperaturi. Ugljikov tetrafluorid je plin koji uzrokuje efekt staklenika. Vrlo je stabilan, može dugo ostati u atmosferi i vrlo je snažan staklenički plin. Ugljikov tetrafluorid se koristi u procesu plazma jetkanja raznih integriranih krugova. Također se koristi kao laserski plin i koristi se u niskotemperaturnim rashladnim sredstvima, otapalima, mazivima, izolacijskim materijalima i rashladnim sredstvima za infracrvene detektore. To je najčešće korišteni plin za plazma jetkanje u mikroelektronskoj industriji. To je mješavina tetrafluorometana visoke čistoće i tetrafluorometana visoke čistoće te kisika visoke čistoće. Može se široko koristiti u siliciju, silicijevom dioksidu, silicijevom nitridu i fosfosilikatnom staklu. Nagrizanje tankoslojnih materijala poput volframa i volframa također se široko koristi u čišćenju površina elektroničkih uređaja, proizvodnji solarnih ćelija, laserskoj tehnologiji, niskotemperaturnom hlađenju, inspekciji curenja i deterdžentu u proizvodnji tiskanih pločica. Koristi se kao niskotemperaturno rashladno sredstvo i tehnologija suhog nagrizanja plazmom za integrirane krugove. Mjere opreza za skladištenje: Čuvati u hladnom, prozračenom skladištu nezapaljivih plinova. Držati dalje od izvora vatre i topline. Temperatura skladištenja ne smije prelaziti 30°C. Treba ga skladištiti odvojeno od lako (zapaljivih) zapaljivih tvari i oksidansa te izbjegavati miješano skladištenje. Skladišni prostor treba biti opremljen opremom za hitne slučajeve propuštanja.

Primjena:

① Rashladno sredstvo:

Tetrafluorometan se ponekad koristi kao rashladno sredstvo na niskim temperaturama.

② Jetkanje:

Koristi se u mikrofabrikaciji elektronike samostalno ili u kombinaciji s kisikom kao plazma jetkalo za silicij, silicijev dioksid i silicijev nitrid.

Normalni paket:

Prednost:

①Visoka čistoća, najnoviji objekt;

②Proizvođač s ISO certifikatom;

③Brza dostava;

④Online sustav analize za kontrolu kvalitete u svakom koraku;

⑤Visoki zahtjevi i pedantan postupak rukovanja cilindrom prije punjenja;Vjerujemo u: Inovacija je naša duša i duh. Dobra kvaliteta je naš život. Ono što kupac treba imati je naš Bog za novopridošli kineski plin visoke čistoće CF4 za jetkanje u poluvodičkoj industriji. Iskreno se trudimo ponuditi najbolju uslugu svim klijentima i poslovnim ljudima.
NovopridošliKineski rashladni plin CF4, Plinska bocaSada je konkurencija u ovom području vrlo žestoka; ali mi ćemo i dalje nuditi najbolju kvalitetu, razumnu cijenu i najoštriju uslugu u nastojanju da postignemo cilj u kojem svi dobivaju. „Promjena na bolje!“ je naš slogan, što znači „Bolji svijet je pred nama, pa uživajmo u njemu!“ Promjena na bolje! Jeste li spremni?